Mécanismes d'anisotropie dans la gravure du silicium en plasma SF6. Modèle de gravure
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ژورنال
عنوان ژورنال: Revue de Physique Appliquée
سال: 1986
ISSN: 0035-1687
DOI: 10.1051/rphysap:01986002106037700